扫瞄穿隧式硬度计的原理-精密光学仪器常识 原子力显微技术 原子力硬度计 自从 1982 年扫瞄穿隧式电子硬度计(STM)发明之后，开启了可以直接探索原子尺度的表面结构， 方便我们取得样品表面的影像， 此后各式不同功用的扫瞄探针硬度计(SPM)也相继不断地被发展出来， 而以 1986 年所发明的原子力硬度计(AFM)用途广。 由于扫瞄穿隧式硬度计是使用量子穿隧效应做为回馈控制的讯号，样品需为导体或半导 体，且系统要求需在高真空环境下进行，才能使影像的解析度更好， 但也降低了其实用性与便利性。 然而原子力硬度计，它可在大气环境及液体下操作，受测样品不须具有导电性，所以研究及应用的领域范 围就更加宽广， 加上它的解析度也可达到奈米级，对微区结构的表面几何形貌、粗糙度等特性，提供了微小量技术的主要利器。 尤其对于传统扫瞄电子显微术无法清楚解析之样品，更是佳的检测工具 AFM 仪器系统架构，分为三个主要部分：扫瞄控制主体系统、电子控制系统、及隔离防震系统